多晶硅，是單質硅的一種形態，是極為重要的優良半導體材料。多晶硅可用于半導體工業、電子信息產業、太陽能光伏電池產業*主要、*基礎的功能性材料，多晶硅生產主要是采用改良西門子法，改良西門子法生產多晶硅的反應器主要采用多晶硅還原爐，該方法是將多晶硅還原爐內安裝沉積載體通電發熱，在多晶硅還原爐內將高純度氯硅烷與氫氣的混合氣體加熱到1000℃以上發生反應生成硅，硅沉積在上述沉積載體上的過程。
在多晶硅生產過程中，還原爐鐘罩表面上會沉積一定厚度的多晶硅副產物、硅粉等，但是，多晶硅生產對還原爐的沉積環境的潔凈度要求特別關鍵，任何顆粒性雜質、物料等物質余留在爐內，都會對產品質量造成影響。所以，在還原爐運行一個周期結束后，都需要把鐘罩用行車吊到清洗裝置平臺上對鐘罩進行清洗干凈后，在裝硅芯進行下一個周期的化學氣相沉積。
通常，對于多晶硅還原爐鐘罩清洗主要包括清洗和烘干兩個過程，過去以人工清洗為主，不安全，不環保，清洗的一致性也難以保證，清洗效果差，自動化程度低，效率不高。為此德高潔自主研發并投入使用了一套自動化高壓水多晶硅還原爐鐘罩清洗系統，主要用于西門子法多晶硅還原爐鐘罩(爐筒)內壁的全自動清洗和烘干。
其工作原理是以水力自驅動三維自動旋轉噴頭，形成360°的網狀噴射表面，完成鐘罩內部表面的水力掃射，用專用清洗劑等為主要清洗液，用純水(去離子水或叫脫鹽水)漂洗，用高純水沖洗，完成清洗過程。其后用經過三級凈化(10萬級)的純凈空氣，梯級加熱，保證烘干完的鐘罩不再結露，可直接進入生產作業，采用全密閉式清洗烘干方式，基本消除了對現場及操作人員的污染。
系統采用PLC+觸摸屏柔性自動控制系統，實現對還原爐鐘罩的自動清洗和烘干同時具有半自動或手動功能。系統清洗流程：還原爐鐘罩到位→預清洗→清洗劑(堿液)清洗→漂洗→高純水沖洗→凈化熱空氣干燥→常溫干燥→鐘罩吊走，一套系統實現多種型號還原爐鐘罩的清洗烘干。
多晶硅還原爐清洗設備是多晶硅生產中產出*終產品的核心設備，也是決定系統產品質量、成本的關鍵環節。德高潔多晶硅還原爐鐘罩自動清洗系統采用環保工藝搭配清洗設備，結合自動化智能化的清洗方式，不僅能夠提高多晶硅還原爐鐘罩的清洗效率及安全性，更能夠為多晶硅還原爐鐘罩清洗時的質量、環保等問題進行加持，目前系統已經覆蓋90%的多晶硅生產企業，為多晶硅還原爐生產廠家提供更加環保、高效、安全的還原爐鐘罩自動清解決方案，為多晶硅生產行業的快速發展助力。
